強制對流是自流體因溫度或濃度所產(chǎn)生的密度差所導(dǎo)致的。

光學(xué)高溫計只要選取一定的波長，通常選λ=0.78μm。

化學(xué)氣相沉積乃是通過化學(xué)反應(yīng)的方式，利用加熱、等離子激勵或光輻射等各種能源，在反應(yīng)器內(nèi)使氣態(tài)的化學(xué)物質(zhì)在氣相或氣固界面上經(jīng)化學(xué)反應(yīng)形成固態(tài)沉積物的技術(shù)。

溫度的高低不必用數(shù)字來說明，溫標是溫度的數(shù)值表示方法。

CVD 工藝是在較低壓力和較底溫度下進行的，不僅用來增密炭基材料，還可增強材料斷裂強度和抗震性能。

高溫反應(yīng)受熱容器包括玻璃容器、陶瓷容器、金屬容器等等。

共價晶體不需考慮長程力的作用，表面能（Er）即是破壞單位面積上的全部鍵所需能量之一半：Er=1/2E 鍵。

化學(xué)合成反應(yīng)沉積是由兩種或兩種以上的反應(yīng)原料氣在沉積反應(yīng)器中相互作用合成得到所需要的無機薄膜或其它材料形式的方法。

渦流擴散是在有濃度差異條件下，物質(zhì)通過渦流流體的傳遞過程。

簡述雜質(zhì)對擴散的影響。