A.根據(jù)版圖提供的信息來制造掩膜
B.根據(jù)掩膜提供的信息來設(shè)計(jì)版圖
C.版圖(Layout)與掩膜(Mask)的毫無關(guān)系
D.不確定
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A.溫度
B.厚度
C.硅晶向
D.摻雜
A.干氧氧化
B.濕氧氧化
C.離子氧化
D.水蒸汽氧化
A.元器件的組成部分(如柵氧化層)
B.源漏極
C.互連層間絕緣介質(zhì)
D.作為掩蔽膜
A.幾何設(shè)計(jì)規(guī)則是版圖圖形編輯的依據(jù)
B.幾何設(shè)計(jì)規(guī)則是設(shè)計(jì)系統(tǒng)生成版圖的依據(jù)
C.幾何設(shè)計(jì)規(guī)則是分析計(jì)算的依據(jù)
D.幾何設(shè)計(jì)規(guī)則是檢查版圖錯(cuò)誤的依據(jù)
A.粘附性
B.刻蝕溫度
C.刻蝕時(shí)間
D.刻蝕槽的高度
最新試題
鍵合工藝失效,,鍵合點(diǎn)尾絲不一致,可能產(chǎn)生的原因有()。
引線鍵合的常用技術(shù)有()。
下列對(duì)焊接可靠性無影響的是()。
凸點(diǎn)的制作技術(shù)有()。
制造和封裝工藝過程中的材料性能是決定材料應(yīng)用的關(guān)鍵,制造性能主要包括()。
收縮型四邊扁平封裝的引腳中心距離比普通的四邊扁平要大,所以在封裝體的邊緣可以容納更多的引腳個(gè)數(shù)。
下列關(guān)于BGA球柵陣列的優(yōu)缺點(diǎn),說法正確的是()。
常規(guī)芯片封裝生產(chǎn)過程包括粘裝和引線鍵合兩個(gè)工序,而倒裝芯片則合二為一。
鍵合常用的劈刀形狀,下列說法正確的是()。
QFP的結(jié)構(gòu)形式因帶有引線框(L/F),對(duì)設(shè)定的電性能無法調(diào)整,而BGA可以通過芯片片基結(jié)構(gòu)的變更,得到所需的電性能。