單項選擇題兩步工藝分為預(yù)淀積(預(yù)擴(kuò)散)、再分布(主擴(kuò)散)兩步,預(yù)淀積是惰性氣氛下的()。?

A.恒定源擴(kuò)散
B.有限源擴(kuò)散
C.間隙式擴(kuò)散
D.替位式擴(kuò)散


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1.單項選擇題以下不是擴(kuò)散工藝的重要參數(shù)是()。?

A.表面濃度
B.雜質(zhì)類型
C.結(jié)深
D.摻入雜質(zhì)總量

3.單項選擇題通過定域、定量擴(kuò)散摻雜,不能實現(xiàn)的目的是()。?

A.改變半導(dǎo)體導(dǎo)電類型
B.改變電阻率
C.形成PN結(jié)
D.形成隔離

4.單項選擇題集成電路版圖設(shè)計中不是MOS管的可變參數(shù)是()。?

A.柵長(gate_length)
B.氧化層厚度
C.柵寬(gate_width)
D.柵指數(shù)(gates)

5.單項選擇題集成電路版圖設(shè)計規(guī)則(Design Rules)沒有提供的規(guī)則是()。

A.各層的最小寬度
B.層與層之間的最小間距
C.摻雜濃度
D.層與層之間的最小交疊