半導體芯片制造工章節(jié)練習(2020.02.02)
來源：考試資料網(wǎng)
參考答案：
①金屬-絕緣體-金屬（MIM）結構；
②多晶硅/金屬-絕緣體-多晶硅結構；
③金屬叉指結構；
④PN結電容；
⑤MOS電容。
參考答案：正性光刻把與掩膜版上相同的圖形復制到硅片上，負性光刻把與掩膜版上圖形相反的圖形復制到硅片表面，這兩種基本工藝的主要區(qū)別在... 參考答案：（1）反應氣體從腔體入口向晶圓片附近輸運；
（2）這些氣體反應生成系列次生分子；
（3）這些反應物輸... 參考答案：四種真空范圍：
（1）低級真空：氣流主要是由分子間碰撞產(chǎn)生的（也稱滯留），壓強高得足以機械型壓力測量儀測量。
