簡述雜質(zhì)對擴散的影響。

界面張力的大小反映界面熱力學(xué)的穩(wěn)定性。

CVD 技術(shù)中通過沉積反應(yīng)易于生成所需要的材料沉積物，而沉積物均易揮發(fā)而留在氣相排出或易于分離。

CVD 工藝希望反應(yīng)氣體以湍流的形式流動。

CVD 裝置通?？梢杂蓺庠纯刂撇考?、沉積反應(yīng)室、沉積溫控部件、真空排氣和壓強控制部件等部分組成。

高溫反應(yīng)受熱容器包括玻璃容器、陶瓷容器、金屬容器等等。

強制對流是自流體因溫度或濃度所產(chǎn)生的密度差所導(dǎo)致的。

利用熱電偶的電勢與加熱元件的溫度有關(guān)，元件的溫度又與氣體的熱傳導(dǎo)有關(guān)，熱傳導(dǎo)量又與壓力成反比的原理來測量真空度的真空計。

Ni-Cr 和Fe-Cr-Al 合金電熱體的工作溫度是1000℃至1300℃。

光學(xué)高溫計只要選取一定的波長，通常選λ=0.78μm。