簡述真空蒸鍍的原理。

空氣中鉑的使用溫度為1500℃，能在氧分壓等于0.1MPa 下使用。

界面張力的大小反映界面熱力學(xué)的穩(wěn)定性。

活性炭對物質(zhì)的吸附是對極性基團少的化合物的吸附力大于極性基團多的化合物。

高溫反應(yīng)受熱容器包括玻璃容器、陶瓷容器、金屬容器等等。

簡述雜質(zhì)對擴散的影響。

CVD 工藝希望反應(yīng)氣體以湍流的形式流動。

Ni-Cr 和Fe-Cr-Al 合金電熱體的工作溫度是1000℃至1300℃。

利用熱電偶的電勢與加熱元件的溫度有關(guān)，元件的溫度又與氣體的熱傳導(dǎo)有關(guān)，熱傳導(dǎo)量又與壓力成反比的原理來測量真空度的真空計。

化學(xué)氣相沉積乃是通過化學(xué)反應(yīng)的方式，利用加熱、等離子激勵或光輻射等各種能源，在反應(yīng)器內(nèi)使氣態(tài)的化學(xué)物質(zhì)在氣相或氣固界面上經(jīng)化學(xué)反應(yīng)形成固態(tài)沉積物的技術(shù)。