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每日一練
章節(jié)練習
半導體芯片制造工問答題每日一練(2019.11.25)
來源:考試資料網(wǎng)
1.問答題
名詞解釋:CVD、LPCVD、PECVD、VPE、BPSG。(將這些名詞翻譯成中文并做出解釋)。
參考答案:
2.問答題
集成電容主要有哪幾種結(jié)構(gòu)?
參考答案:
①金屬-絕緣體-金屬(MIM)結(jié)構(gòu);
②多晶硅/金屬-絕緣體-多晶硅結(jié)構(gòu);
③金屬叉指結(jié)構(gòu);
④PN結(jié)電容;
⑤MOS電容。
3.問答題
描述電子回旋共振(ECR)。
參考答案:
ECR反應器在1~10毫托的工作壓力下產(chǎn)生很密的等離子體。它在磁場環(huán)境中采用2.45GHZ微波激勵源來產(chǎn)生高密度等離子體...
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4.問答題
描述凈化間的舞廳式布局。
參考答案:
凈化間的舞廳式布局為大的制造間具有10000級的級別,層流工作臺則提供一個100級的生產(chǎn)環(huán)境。
5.問答題
解釋光刻膠選擇比。要求的比例是高還是低?
參考答案:
光刻膠選擇比是指顯影液與曝光的光刻膠反應的速度快慢,選擇比越高,反應速度越快,所以要比例高。