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半導(dǎo)體芯片制造工單項(xiàng)選擇題每日一練(2020.06.07)
來(lái)源:考試資料網(wǎng)
1
恒定表面源擴(kuò)散的雜質(zhì)分布在數(shù)學(xué)上稱為()分布。
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2
光刻工藝是利用感光膠感光后抗腐蝕的特性在半導(dǎo)體晶片表面的掩膜層上的工藝()
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3
厚膜元件燒結(jié)時(shí),漿料中的固體顆粒由接觸到結(jié)合、自由表面的收縮、空隙的排除、晶體缺陷的消除等都會(huì)使系統(tǒng)的自由能(),從而使系統(tǒng)轉(zhuǎn)變?yōu)闊崃W(xué)中更穩(wěn)定的狀態(tài)。
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4
離子注入層的深度主要取決于離子注入的()。
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5
反應(yīng)離子腐蝕是()。
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