多項選擇題氧化硅在集成電路制造中有哪些應(yīng)用?()

A.屏蔽層
B.柵氧化層
C.犧牲層
D.襯墊層


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1.單項選擇題?下列哪種工藝所制備的氧化層質(zhì)量最好?()

A.水汽氧化
B.干氧氧化
C.濕氧氧化
D.化學氣相淀積

3.多項選擇題硅片制備最先進的拋光工藝是()。

A.化學拋光
B.機械拋光
C.化學機械拋光
D.CMP

4.多項選擇題現(xiàn)代硅單晶制備所需電子級多晶硅的純度是()。

A.分析純
B.化學純
C.99.9999999%
D.9個N

5.多項選擇題相對于其他半導體,硅半導體的重要性體現(xiàn)在()。

A.工藝最先進
B.材料性能優(yōu)良
C.工藝成本低
D.晶圓尺寸最大