解釋正性光刻和負性光刻的區(qū)別？為什么正膠是普遍使用的光刻膠？最常用的正膠是指哪些膠？

什么是硅化物？難熔金屬硅化物在硅片制造業(yè)中重要的原因是什么？

例舉離子注入設備的5個主要子系統(tǒng)。

解釋掃描投影光刻機是怎樣工作的？掃描投影光刻機努力解決什么問題？

解釋什么是暗場掩模板？

干法刻蝕的目的是什么？例舉干法刻蝕同濕法刻蝕相比具有的優(yōu)點。干法刻蝕的不足之處是什么？

敘述氮化硅的濕法化學去除工藝。

例舉并描出旋轉涂膠的4個基本步驟。

描述電子回旋共振（ECR）。

光學光刻中影響圖像質量的兩個重要參數(shù)是什么？