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半導體芯片制造工半導體制造技術問答題每日一練(2019.07.22)

來源：考試資料網(wǎng)

1.問答題集成電路制造中有哪幾種常見的擴散工藝？各有什么優(yōu)缺點？

參考答案：擴散工藝分類：按原始雜質(zhì)源在室溫下的相態(tài)分類，可分為固態(tài)源擴散，液態(tài)源擴散和氣態(tài)源擴散。固態(tài)源擴散（1）.開管擴散...

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2.問答題離子在靶內(nèi)運動時，損失能量可分核阻滯和電子阻滯，解釋什么是核阻滯、電子阻滯？兩種阻滯本領與注入離子能量具有何關系？

參考答案：①碰撞注入離子與靶內(nèi)原子核之間的相互碰撞。因注入離子與靶原子的質(zhì)量一般為同一數(shù)量級，每次碰撞之后，注入離子都可能發(fā)生大角...

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3.問答題什么是兩步擴散工藝，其兩步擴散的目的分別是什么？

參考答案：實際的擴散溫度一般為900-1200℃，在這個溫度范圍內(nèi)，雜質(zhì)在硅中的固溶度隨溫度變化不大，采用恒定表面源...

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4.問答題射頻放電與直流放電相比有何優(yōu)點？

參考答案：直流放電中，電荷在表面的積聚會使電場減小，直到等離子體消失。在射頻電場中，因為電場周期性地改變方向，帶電粒子不容易到達電...

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5.問答題 下圖為一個典型的離子注入系統(tǒng)。（1）給出1~6數(shù)字標識部分的名稱，簡述其作用。（2）闡述部件2的工作原理。

參考答案：1.離子源2.分析磁塊3.加速器4.中性束閘5.x&y掃描板6.法拉第杯
1.離子源作用：產(chǎn)生注入用的離子原理...

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