集成電路工藝原理章節(jié)練習(2018.11.15)

來源:考試資料網(wǎng)
參考答案:對晶體進行離子注入時,當離子注入的方向與與晶體的某個晶向平行時,一些離子將沿溝道運動,受到的核阻止作用很小,而且溝道中的...
3.名詞解釋接觸
參考答案:

是指芯片內(nèi)的器件與第一層金屬之間在硅表面的連接。

4.名詞解釋化學氣相沉積
參考答案:化學氣體或蒸氣和晶圓表面的固體產(chǎn)生反應,在表面上以薄膜形式產(chǎn)生固態(tài)的副產(chǎn)品,其它的副產(chǎn)品是揮發(fā)性的會從表面離開。
參考答案:預淀積;推進;激活
參考答案:

當離子沿晶軸方向入射時,大部分離子將沿溝道運動,不會受到原子核的散射,方向基本不變,可以走得很遠。

7.名詞解釋同質(zhì)外延
參考答案:

外延層與沉底的材料相同。

參考答案:基板:基板要具有良好的電絕G8P-1A4PDC12緣性、導熱性和機械強度高等特征。一般基板的材科多采用高純度的(96%)...
參考答案:投影掩膜版:圖形可能僅包含一個管芯,也可能是幾個。容易形成亞微米圖形;小曝光場,需要步進重復;光學縮小,允許較大的尺寸。...
10.名詞解釋投影射程
參考答案:

射程在離子入射方向投影的長度。